流体研磨材料 碳化硅粉末

1、无机研磨剂废液的再生处理装置 2、化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法 3、化学机械研磨用研磨剂及研磨方法 4、含肽半导体用研磨剂 5、化学机械抛光用研磨剂 6、超精研磨剂及其制备工艺 7、复合研磨剂及制备该复合研磨剂的组合物及方法 8、牙粉中使用的流体研磨剂悬浮液 9、研磨剂基片的研磨法和半导体装置的制造方法 10、研磨剂研磨剂的制造方法以及研磨方法 11、用来研磨晶片材料的化学-机械研磨机，以及装在该机器上的研磨剂输送设备 12、氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 13、氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法 14、研磨剂用组合物及其调制方法 15、半导体

一、化学抛光    化学抛光是让材料在化学介质中外表微观凸出的局部较凹局部优先溶解。
可以抛光形状复杂的工件，从而得到平滑面。
这种方法的主要优点是不需复杂设备。
可以同时抛光很多工件，效率高。
化学抛光的核心问题是抛光液的配制。
化学抛光得到外表

  [SY4098-0042-0001] 喷射系统 [摘要] 一种利用磨粒加工元件的喷射系统，其包括装磨粒（２）的加料斗（１），混合装置（３）。
该混合装置由以下部分组成：
装有高压气管（１０）的混合室（９），且混合室在其折弯处形成喷射管（１１）；位于加料斗与混合室之间的输送管（５），磨粒自加料斗经输送管被输送至混合室；产生高压空气（Ｐ）的设备（６），通过高压气管将高压空气供给混合室，以获得从喷射管喷出的磨粒与空气的混合物；以及经输送管输送磨粒的输送机构（４）。
为获得适于批量生产的能量效率的喷射系统，本发明其特征在于：
该系统在高压空气的绝对压力（p）为２～４．５巴之间工作，同时装入混合室内的高压气管的最小直径d1对喷射管的最小直径d2之间的比值d1/d2在０．６～０．９之间，而p1/d。
  [SY4098-0047-0002] 高效磨料射流方法及装置 [摘要] 高效磨料射流方法及装置是一个

流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。
流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。
介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制

0042-0001-喷射系统[摘要-一种利用磨粒加工元件的喷射系统，其包括装磨粒（２）的加料斗（１），混合装置（３）。
该混合装置由以下部分组成：
装有高压气管（１０）的混合室（９），且混合室在其折弯处形成喷射管（１１）；位于加料斗与混合室之间的输送管（５），磨粒自加料斗经输送管被输送至混合室；产生高压空气（Ｐ）的设备（６），通过高压气管将高压空气供给混合室，以获得从喷射管喷出的磨粒与空气的混合物；以及经输送管输送磨粒的输送

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