《石墨半环机械研磨工艺技术》是通过对LH308.80.005零件展开工艺技术研究的介绍,解决了石墨半环口械研磨加工的一系列问题,固化了加工参数。
在保证工件质量的前提下,显著提高了生产效率,实现了快捷生产的目的。
【引言】 机械研磨处理淀粉的市场运行现状如何? 新上机械研磨处理淀粉产品线多大的产能规模才不会造成供大于求? 机械研磨处理淀粉的技术发展现状如何? 新上机械研磨处理淀粉产品线应该选用什么工艺才具有长远竞争力? 机械研磨处理淀粉的市场竞争状况如何? 新上机械研磨处理淀粉产品线,应关注国内哪些企业? ······ 华
化学机械研磨技术(化学机器磨光,CMP)兼具有研磨性物质的机械式研磨与酸碱溶液的化学式研磨两种作用,可以使晶圆表面达到全面性的平坦化,以利后续薄膜沉积之进行。
在CMP制程的硬设备中,研磨头被用来将晶圆压在研磨垫上并带动晶圆旋转,至于研磨垫则以相反的方向旋转
一、研磨 用研磨工具和研磨剂,从工件上研去一层极薄表面层的精加工方法,称为研磨。
研磨时,在工件与研密盘中间放入金刚砂或其它研磨剂后,受金刚砂挤压,工件表面产生破裂,当研磨盘与工件相对运动后,由于磨料的不规则和它在研磨盘与工件表面滚动,工件表面破裂的碎
在传统酸性镀铜液中加入玻璃球,利用SEM和XRD考察了玻璃球数量与震荡频率对机械研磨电镀工艺的影响,并探讨了水平震荡频率和玻璃球数量对镀层微观结构的影响机理。
实验结果表明:固定玻璃球数量为80个,震荡频率为2.5~4.2 Hz时,所得镀层的晶粒尺寸随着震荡频率的增加而显著降低;固定水平震荡频率为4.2 Hz,玻璃球数量为40~120个时,随着玻璃球数量的增加,所得镀层的晶粒尺寸先降低后略有增大,但仍明显小于传统镀层;水平震荡机械研磨电镀铜层具有(111)择优取向,但择优取向程度受水平震荡条件影响。
近年来,与机械作用相关的材料表面纳米化技术备受关注,如表面机械研磨处理[1]、球磨[2]、超音速喷丸[3]等技术可使材料的表面性能得到提高,已成功应用于金属的表面纳米化处理。
然而,通过塑性变形来制备纳米化表层需要很高的能量。
最近,He Ye-dong等人[4-6]研究发现,在镀液中